ВЛИЯНИЕ МАТЕРИАЛА ПОДЛОЖКИ ОХЛАЖДАЕМОГО ИНФРАКРАСНОГО МАТРИЧНОГО ФОТОПРИЕМНИКА НА НАГРЕВ ЕГО ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНОГО СЛОЯ ПРИ ВЗАИМОДЕЙСТВИИ С ИНТЕНСИВНЫМ ЛАЗЕРНЫМ ИЗЛУЧЕНИЕМ

А. Э. Запонов, Д. С. Конради
Вопросы атомной науки и техники. Сер. Математическое моделирование физических процессов 2022. Вып.1. С. 62-69.

       В пакете программ инженерного анализа и суперкомпьютерного моделирования "Логос" разработаны и реализованы расчетные модели взаимодействия интенсивного лазерного излучения с матричными фотоприемниками на основе InSb и Cd_xHg_1-x Te с подложками из Si, GaAs, Ge, InAs для определения их влияния на формирование и эволюцию возникающих при этом тепловых полей. Проанализированы и представлены в аналитическом виде температурные зависимости оптических и теплофизических характеристик исследуемых материалов. Показаны полученные результаты моделирования, проведены их анализ и обобщение (рис. - 6, табл. - 3, список лит. - 9).

Полный текст статьи